特許法第33条に関する学術フォーラムを北京で開催

 

2010年11月25-26日に、中国弁理士協会の主催で、「特許法第33条の理論と実務」に関する学術フォーラムを北京で開催された。国家知的財産権局審査官、人民法院の裁判官、全国代理事務所からの弁理士、会社知財関係者を含めて合計約200余名が出席した。

近年、特許審査実務において、特許法第33条に関する論争が表われてくる。特許法第33条に、「出願人はその特許出願書類に対し補正を行うことができるが、発明及び実用新案の補正は、当初の明細書及び権利請求書に記載された範囲を超えてはならず、意匠の補正は、当初の図面又は写真で表示された範囲を超えてはならない」という規定を記載されている。論争の焦点は、「当初の明細書及び権利請求書(図面又は写真)に記載された範囲」についてどう定義すれば良いのかという点である。

2006年に改正された審査指南により、審査段階において、審査官は補正範囲を明細書で「直接的かつ一義的に確定できる内容」、さらに内部規程では「唯一に確定できる内容」までも制限するため、特許法第33条違反を理由とし、拒絶は増えてきて、国内外から批判が集まり、広く議論された。

そのような背景の元で、中国弁理士協会は論文を募集し、受賞論文に書かれた観点、意見について検討するため今回のフォーラムを開催した。会場では、参会者は「『記載した範囲』を『開示した範囲』に理解できるのか」、「『上位概念化への文言を書き直す』は許されるのか」などの議題をめぐってディスカッションを活発に行った。